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在材料科學(xué)、印刷包裝、電子制造等領(lǐng)域，表面處理技術(shù)是提升材料性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。實(shí)驗(yàn)室電暈機(jī)作為一種非接觸式表面改性設(shè)備，通過(guò)高頻高壓放電產(chǎn)生的低溫等離子體，能夠改善材料的潤(rùn)濕性、粘附性和表面能，為后續(xù)加工工藝奠定基礎(chǔ)。其核心機(jī)制基于電暈放電現(xiàn)象。當(dāng)在兩個(gè)電極間施加足夠高的電壓時(shí)，空氣中的氣體分子被電離，形成帶正電的離子和自由電子。這些帶電粒子在強(qiáng)電場(chǎng)中加速，與周?chē)鷼怏w分子碰撞，進(jìn)一步激發(fā)出更多活性粒子，形成低溫等離子體。這一過(guò)程可分為三個(gè)階段：1.電場(chǎng)建立與氣體電離高壓電源通過(guò)...
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單層MoS2光電探測(cè)器的制備和性能調(diào)控二維過(guò)渡金屬硫化物(2D-TMDS)材料(如M0S2、WS2、SnS2NbS2)具有優(yōu)異的光學(xué)、電學(xué)、光電學(xué)、力學(xué)等性能，材料厚度為0.1?Inm,具有理想的半導(dǎo)體帶隙(1.5-2.1eV),以及強(qiáng)烈的光-物質(zhì)相互作用，成為下一代微型、高靈敏度、高穩(wěn)定、透明性的光電探測(cè)器的理想材料。對(duì)單層MoS2光電探測(cè)器進(jìn)行氧等離子處理，氧等離子處理工藝是：將制備出的單層MoS2光電探測(cè)器放置于低溫氧等離子環(huán)境中，氧等離子體機(jī)的放電功率均設(shè)置為10W,...
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TiO2/二維(ReS2,GeTe)薄膜異質(zhì)結(jié)光催化劑制備及光電催化性能研究PLUTO-T型等離子清洗機(jī)適合在大學(xué)實(shí)驗(yàn)室和研究機(jī)構(gòu)使用的實(shí)驗(yàn)室桌面型等離子清洗機(jī)。性能穩(wěn)定，操作方便，參數(shù)響應(yīng)反饋及時(shí)，深得科研人員的喜愛(ài)和贊同。浙江大學(xué)客戶使用PLUTO-T型等離子清洗機(jī)發(fā)表了論文。（1）采取球磨與超聲液相輔助剝離法制備二維層狀ReS2納米片，所制得的納米片尺寸約為200nm，厚度小于10nm。通過(guò)滴涂法工藝在一維TiO2垂直納米棒（NRs）陣列薄膜上涂覆ReS2納米片制備Ti...
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